赫爾納供應德國focus蒸發(fā)器EFM 3s

赫爾納供應德國focus蒸發(fā)器EFM 3s

赫爾納貿易優(yōu)勢供應,德國總部直接采購，近30年進口工業(yè)品經(jīng)驗,原裝產品，為您提供一對一好的解決方案，貨期穩(wěn)定。

公司簡介：

"聚焦"和"聚焦"電子公司作為公司和擁有者的德國公司正在合作。焦點 位于哈丁斯坦,距離法蘭克福機場僅30分鐘車程。聚焦電子 其設施位于工業(yè)化的東德核心之一萊比錫市。

focus蒸發(fā)器主要產品：

focus蒸發(fā)器

focus離子源

focus蒸發(fā)器產品型號：

EFM 3i

EFM 3s

EFM 4

focus蒸發(fā)器產品特點：

EFM3在 EFM3的基礎上增加了一個額外的電極。在 EFM 系列的產品中，蒸發(fā)束的一部分在加熱過程中被電子轟擊電離。這些離子被通量監(jiān)測電極捕獲。

focus蒸發(fā)器產品應用：

focus蒸發(fā)器由于蒸發(fā)劑相對于接地樣品處于高電壓下，剩余的離子可能在基體表面產生缺陷并沉積能量。為了產生中性束，在 EFM3s 的抑制電極上施加一個額外的電壓。focus蒸發(fā)器附加電壓由 EVC 300或 EVC 100供電。

focus蒸發(fā)器EFM3i 是設計來促進層層增長的情況下，它不會自然發(fā)生。它允許控制目標材料的蒸發(fā)，并同時產生離子，造成額外的表面缺陷(離子束輔助沉積，IBAD)。focus蒸發(fā)器這些離子可以通過蒸發(fā)靶材的固有過程產生，也可以通過集成氣體入口的幫助從惰性氣體中產生。離子通過靜電透鏡聚焦到基片上。focus蒸發(fā)器這種聚焦透鏡可以調節(jié)目標沉積區(qū)域內離子與中性粒子的比例，從而誘導額外的缺陷密度。另外敏感的襯底材料可以通過排斥透鏡電壓來防止離子轟擊(參見 EFM3s)。用的 EVC 300i 電源不支持蒸發(fā)過程，還提供額外的透鏡電壓，包括一個樣品電流表。

focus蒸發(fā)器EFM4具有與 EFM3相同的特性，但是用于在直徑大約50毫米的襯底上沉積。三個不同的出口孔可以使蒸發(fā)面積準確地適應樣品的大小。通過選擇適當?shù)嫩釄搴碗娮邮β剩梢詫崿F(xiàn)蒸發(fā)速率從每分鐘1/10單層到每秒1000多單層不等。focus蒸發(fā)器EFM 4適用于達700毫米3的坩堝容量。有效的水冷卻了低背景壓力(通常在10-10毫巴范圍內) ，使在高蒸發(fā)溫度下長時間運行。由于大的蒸發(fā)面積的目標是運行的 EFM4與 EVC300電源是合適的配置。

focus蒸發(fā)器基于 EFM3蒸發(fā)器的設計理念，三重蒸發(fā)器 EFM3T 具有三個獨立的單元，用于蒸發(fā)來自電線、電桿或坩堝的各種材料。focus蒸發(fā)器這三個單獨的電池在距離出口孔約93毫米處(距安裝法蘭254毫米)有交叉梁，以蒸發(fā)區(qū)域的大重疊。每個電池配備有單獨的燈絲和高壓電源，以防止串擾。三個獨立的通量監(jiān)測器能夠控制化合物的化學計量生長。整體多位置快門使劑量和同時或連續(xù)蒸發(fā)產生例如格子或多層。focus蒸發(fā)器通過可選的快門機動化和 PC 軟件工具 Multi Epitass 完成。沉積區(qū)域由三個孔中的一個孔的選擇決定。三個蒸發(fā)目標是獨立地安裝在三個25毫米 Z 偏移對準。這一功能允許蒸發(fā)棒與多口袋儀器。focus蒸發(fā)器目標材料可以很容易地從后方(3xNW16CF)填充。一個電源可以順序地操作所有三個單元。在共同蒸發(fā)的情況下，每種材料都需要一個單獨的電源。